光刻机根据操作的轻便性分为三种,手动、半自动、全自动。

信息来源:www.zhmachine.net 发布时间:2018-04-23

       光刻工艺要经历硅片外貌洗濯烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、等工序。 光刻意思是用光来制作一个图形;在硅片外貌匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的进程将器件或电路布局临时“复制”到硅片上的进程。

              
  光刻机根据操作的轻便性分为三种,手动、半自动、全自动。 
  1.手动:指的是对准的调治要领,是议决手调旋钮变化它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。
  2.半自动:指的是对准可以议决电动轴根据CCD的举行定位调谐。
  3.自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是议决步调控制。
      希望以上言论能够在您使用中有所帮助,欢迎您来电咨询。
    
 

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